本发明涉及纳米压印领域，具体涉及一种过滤膜的制备方法。
背景技术：
在医学生物领域，很多场所需要用到过滤膜，过滤膜上的孔径非常的小。现有的制备方法采用光刻胶的方法进行制备，光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。
但是，在等待曝光和显影的过程中，需要浪费许多的时间，导致过滤膜的生产效率低下。
技术实现要素：
为了解决上述技术问题，本发明提出了一种过滤膜的制备方法，该方法采用压印胶进行压印，效率高，质量好，尤其适用于对大尺寸过滤膜的制备。
为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：
一种过滤膜的制备方法包括以下步骤：
1)涂胶，在基膜的表面涂覆一层均匀的压印胶，在基膜表面形成压印胶层；
2)压印，压印模板下压，使得压印模板上凸出的纳米结构与压印胶层表面接触，在压印胶层表面形成相应的图形化纳米结构；
3)刻蚀，利用刻蚀机对具有压印胶层的基膜进行刻蚀，在基膜上刻蚀出相应的孔洞，形成过滤膜；
4)清洗，将过滤膜上多余的压印胶通过酸溶液进行清洗。
本发明利用压印方法来制备过滤膜，更快速便捷，大大提升生产效率，尤其在制备大尺寸的过滤膜时，其优势更为显著。
在上述技术方案的基础上，还可做如下改进：
作为优选的方案，基膜的厚度为3～7um。
采用上述优选的方案，制备出的过滤膜效果佳。
作为优选的方案，压印胶层的厚度为2～4um。
采用上述优选的方案，制备出的过滤膜效果佳。
作为优选的方案，孔洞可为圆形、多边形或椭圆形中的一种或多种。
采用上述优选的方案，根据具体情形进行调整。
作为优选的方案，压印胶层的体积小于压印模板的纳米结构上凹陷结构的体积。
采用上述优选的方案，压印胶层的体积小于压印模板上纳米结构上凹陷结构的体积，因而在压印模板压入压印胶层的过程中，由于压印胶具有一定的粘度、当粘滞力大于毛细力和液体表面张力的相互作用时，液体只沿着基膜与模板形成的纳米沟槽均匀铺展开来，不完全填充如纳米结构中，因而可以制备出与压印模板结构层互补的无残余层的纳米图案，即压印模板的凸出结构下没有压印胶材料，凸出结构与基膜接触，即压印完成后衬底上纳米结构的凹陷部分没有被压印胶覆盖，基膜暴露出来，压印胶层进一步固化为刚性结构后，最终在基膜上获得与模板结构层互补的无残余层纳米结构。
作为优选的方案，在步骤1)前还包括对基膜表面进行预清洗。
采用上述优选的方案，可以采用溶液清洗或吹气等方式将基膜表面的粉尘进行清除。
作为优选的方案，在步骤2)和步骤3)之间还包括以下内容：对具有图形化纳米结构的压印胶层进行加热固化。
采用上述优选的方案，可以采用紫外灯固化或加热板固化等方式对压印胶层进行有效固化。
作为优选的方案，还包括步骤5)烘干，对清洗好的过滤膜进行烘干。
采用上述优选的方案，便于后期进行存储。
作为优选的方案，在步骤1)中，将压印胶分二次、三次或三次以上旋涂于基膜表面，且后一次的旋涂速度大于前一次。
采用上述优选的方案，保证压印胶均匀分布于基膜表面。
作为优选的方案，第一次旋涂速度为每分钟500-1500转；第二次旋涂速度为每分钟1500-3000转；第三次旋涂速度为每分钟3000-5000转。
采用上述优选的方案，保证压印胶均匀分布于基膜表面。
具体实施方式
下面详细说明本发明的优选实施方式。
为了达到本发明的目的，一种过滤膜的制备方法的其中一些实施例中，
一种过滤膜的制备方法包括以下步骤：
1)涂胶，在基膜的表面涂覆一层均匀的压印胶，在基膜表面形成压印胶层；
2)压印，压印模板下压，使得压印模板上凸出的纳米结构与压印胶层表面接触，在压印胶层表面形成相应的图形化纳米结构；
3)刻蚀，利用刻蚀机对具有压印胶层的基膜进行刻蚀，在基膜上刻蚀出相应的孔洞，形成过滤膜，孔洞可为圆形、多边形或椭圆形中的一种或多种，根据具体情形进行调整；
4)清洗，将过滤膜上多余的压印胶通过酸溶液进行清洗。
本发明利用压印方法来制备过滤膜，更快速便捷，大大提升生产效率，尤其在制备大尺寸的过滤膜时，其优势更为显著。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，基膜的厚度为3～7um，压印胶层的厚度为2～4um。
采用上述优选的方案，制备出的过滤膜效果佳。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，压印胶层的体积小于压印模板的纳米结构上凹陷结构的体积。
采用上述优选的方案，压印胶层的体积小于压印模板上纳米结构上凹陷结构的体积，因而在压印模板压入压印胶层的过程中，由于压印胶具有一定的粘度、当粘滞力大于毛细力和液体表面张力的相互作用时，液体只沿着基膜与模板形成的纳米沟槽均匀铺展开来，不完全填充如纳米结构中，因而可以制备出与压印模板结构层互补的无残余层的纳米图案，即压印模板的凸出结构下没有压印胶材料，凸出结构与基膜接触，即压印完成后衬底上纳米结构的凹陷部分没有被压印胶覆盖，基膜暴露出来，压印胶层进一步固化为刚性结构后，最终在基膜上获得与模板结构层互补的无残余层纳米结构。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，在步骤1)前还包括对基膜表面进行预清洗。
采用上述优选的方案，可以采用溶液清洗或吹气等方式将基膜表面的粉尘进行清除。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，在步骤2)和步骤3)之间还包括以下内容：对具有图形化纳米结构的压印胶层进行加热固化。
采用上述优选的方案，可以采用紫外灯固化或加热板固化等方式对压印胶层进行有效固化。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，还包括步骤5)烘干，对清洗好的过滤膜进行烘干。
采用上述优选的方案，便于后期进行存储。
为了进一步地优化本发明的实施效果，在另外一些实施方式中，其余特征技术相同，不同之处在于，在步骤1)中，将压印胶分三次旋涂于基膜表面，且后一次的旋涂速度大于前一次。
第一次旋涂速度为每分钟500-1500转；第二次旋涂速度为每分钟1500-3000转；第三次旋涂速度为每分钟3000-5000转。
采用上述优选的方案，保证压印胶均匀分布于基膜表面。
以上的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。