摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 静电潜像显影用调色剂及双组分显影剂的利记博彩app
    本发明涉及一种静电潜像显影用调色剂及双组分显影剂。更详细而言,本发明涉及一种即使以低印字率持续印刷,印刷图像也具有良好的粒状性、且能长期抑制清洁不良的静电潜像显影用调色剂等。作为用于电子照相方式的图像形成的静电潜像显影用调色剂(以下,也简称为"调色剂"。)所要求的性能,可列举带电性、流动性...
  • 本发明涉及一种调色剂及其制造方法。具体来说,本发明涉及一种外部添加了树脂颗粒的调色剂及其制造方法。已知一种调色剂制造方法,分多个阶段将二氧化硅粉末外部添加到调色剂母粒的表面上。发明内容为了提高调色剂的耐热性、抗热应力性和带电稳定性,有时使用含有树脂的外部添加剂颗粒(树脂颗粒)。但是,一般来...
  • 一种调焦调平装置及方法与流程
    本发明涉及光刻,具体涉及一种调焦调平装置及方法。投影光刻机是一种把掩模上的图案通过物镜投影到硅片面上的装置。在投影曝光设备中,必须有自动调焦调平系统把硅片面精确带入到指定的曝光位置。现有技术中提供的调焦调平检测装置,其系统原理如图1所示。其中,照明单元101出射的光,经投影狭缝10...
  • 一种耐刻蚀的光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法与流程
    本发明属于半导体及集成电路领域,具体涉及一种耐刻蚀的光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法。在半导体集成电路当中,当光刻线宽小于90nm的关键层次时,必须使用ArF光刻胶。但ArF光刻胶的耐刻蚀性能不好,大约为200nm每分钟,需要使用大约500nm的非晶碳化合物(a-carbon)、氮氧化...
  • 曝光装置以及图像形成装置的利记博彩app
    本发明涉及一种曝光装置以及图像形成装置。对于将多个发光二极管(LightEmittingDiode,LED)沿着感光鼓(drum)的旋转轴方向排列,并且相对于感光鼓而在旋转轴方向的两端部定位的LED打印头(LEDPrintHead,LPH)等曝光部来说,因输入在曝光部的外部所产生的...
  • 曝光装置、调整方法和物品制造方法与流程
    本发明涉及曝光装置、调整方法和物品制造方法。通过照明光学装置照明原版(中间掩模(reticle)或掩模(mask))并且经由投影光学系统将原版的图案曝光到基板的投影曝光装置越来越需要分辨率和产量的增加。为了实现高分辨率,曝光用光的波长较短和投影光学系统的数值孔径(NA)增大(也称为"较高的...
  • 光刻机同步触发诊断方法与系统与流程
    本发明涉及扫描光刻机,尤其涉及扫描光刻机的同步控制。光刻机一般可分为步进光刻机和扫描光刻机,其中,步进光刻机采用一次成像技术。由于现有技术方面和经济成本方面的双重制约,限制了步进光刻机的应用场合。于是,产生了扫描光刻机。扫描光刻机最大特点在于同步扫描功能。扫描光刻机的曝光过...
  • 一种像质补偿装置及方法与流程
    本发明涉及光刻,具体涉及一种像质补偿装置及方法。在半导体封装技术中,用于制造集成电路芯片的光刻物镜通常具有高分辨率、大焦深以实现高集成度芯片的制备。同时,还要求投影曝光用的光学成像系统具有良好的像质补偿能力,以满足芯片制备时曝光区域的像质要求。随着光刻成像技术不断提高,芯片的特征尺...
  • 曝光方法、测量方法以及曝光装置与流程
    本发明涉及半导体制造,尤其涉及曝光方法、测量方法以及曝光装置。半导体制造中关于平板显示器件的制造技术是以投影光刻技术为核心,配合成膜、涂胶、显影、刻蚀等工艺,多次循环,最终在玻璃基底上形成微米级尺寸的光电显示器件,并在微米级尺寸的范围内排列成密集阵列。平板显示器件的发展趋势有两点:...
  • 一种调焦调平检测装置的利记博彩app
    本发明涉及半导体制造,特别涉及一种调焦调平检测装置。在现今的扫描投影光刻装置中,多使用光学测量法来实现对硅片的调焦调平测量,且多利用三角测量原理。常用的光学测量方法基本原理为,利用光学照明系统和投影系统,将光斑照射到工件表面,并利用成像和探测系统去探测工件反射的光斑。当工件表面高度...
  • 一种运动模组及方法与流程
    本发明涉及一种垂向运动模组及方法,尤其是一种低成本,高洁净度,免维护的垂向运动模组及载动工件沿垂直方向运动的方法。目前,较多的垂向运动模组由旋转电机作为驱动动力,丝杠作为传动部分,导轨作为运动导向,带动下楔形块水平运动;水平运动的下楔形块会带动上楔形块垂直运动,最终带动工件垂向运动。上述结...
  • 曝光装置、曝光方法及光刻方法与流程
    本公开的实施例涉及一种曝光装置、曝光方法及光刻方法。在半导体器件或显示基板的制备工艺中,通常采用光刻工艺对各个功能层进行构图。光刻工艺的临界尺寸(CriticalDimension,CD)是指光刻工艺所能形成的线条的最小尺寸,利用光刻工艺所形成的图案的临界尺寸的均匀性往往会影响产品的特性...
  • 一种新型硅片贴膜、曝光、撕膜工艺的利记博彩app
    本发明涉及太阳能电池制备,尤其涉及一种新型硅片贴膜、曝光、撕膜工艺。HIT太阳能电池是一种利用晶体硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池,其中贴膜、曝光、撕膜是高电导栅线制备工艺的流程之一。如图1,2,3,4,所示,硅片贴膜片300A是在硅片301的上表面和下表面通过某种设备(如...
  • 一种照明系统、曝光装置和曝光方法与流程
    本发明涉及半导体光刻领域,特别涉及一种照明系统、曝光装置和曝光方法。目前在半导体封装领域,半导体制作及封装集成技术飞速发展,对制造集成电路芯片的光刻物镜提出了更高的要求。集成电路芯片的尺寸在不断做小,要求光刻投影物镜的分辨率和成像质量不断提高,因此光刻投影物镜的像差指标需要不断收严。在半导...
  • 针对透明基底材料的曝光方法与装置与流程
    本发明涉及光刻领域,尤其涉及一种针对透明基底材料的曝光方法与装置。在传统照明条件下,设掩膜图形一级衍射光通过成像系统后,与珠光轴之间的夹角为θ,则正,负一级之间的夹角为2θ。在离轴照明并倾斜θ/2角的条件下,零级衍射光或者正一级(负一级)衍射光宇注光轴的夹角则为θ/2,当离轴照明与传统照明...
  • 用于清洁光刻设备的集光镜的装置及方法与流程
    本公开实施例涉及一种半导体技术,特别涉及一种用于清洁极紫外光(extremeultraviolet,EUV)光刻设备的集光镜(collector)的装置及方法。近年来,半导体集成电路经历了指数级的成长。在集成电路材料以及设计上的技术进步下,产生了多个世代的集成电路,其中每一世代较前一世代...
  • 极紫外光微影设备、标靶材料供应系统与方法与流程
    本发明实施例关于一种半导体技术,特别有关于一种极紫外光(extremeultraviolet,EUV)微影设备及其标靶材料供应系统与方法。近年来,半导体集成电路经历了指数级的成长。在集成电路材料以及设计上的技术进步下,产生了多个世代的集成电路,其中每一世代较前一世代具有更小更复杂的电路。...
  • 光刻工艺的优化方法及其优化系统和光刻方法与流程
    本发明涉及半导体制造,尤其涉及一种光刻工艺的优化方法及其优化系统和光刻方法。光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术,能够实现将图形从掩模版中转移到硅片表面,形成符合设计要求的半导体产品。在半导体制造中,随着设计尺寸的不断缩小,设计尺寸已经接近或者小于光刻过程中使用的光波波长,...
  • 一种掩模版的传输系统以及传输方法与流程
    本发明属于光刻,涉及一种掩模版的传输系统以及传输方法。在光刻机内,掩模版从版盒到掩模台通过掩模版传输系统实现。由于上版精度要求高,掩模版传输系统直接面向操作人员,所以对人机工程要求较高;掩模版上下版过程中,掩模版传输系统运动工位较多,要求传输可靠性高,尤其是在掩模版从光刻机的内部版...
  • 一种金属基感光树脂版生产工艺的利记博彩app
    本发明属于印刷版的生产工艺,具体涉及一种金属基感光树脂版生产工艺。近年来,随着包装纸箱行业的不断发展及印刷业对环保要求的提高,柔性版印刷以其独特的高效低污染的印刷方式迅速发展。柔性感光树脂版利用感光弹性体对紫外光或激光敏感的特性,在柔性感光树脂版制版机上曝光,使原稿影像在感光弹性体...
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